Imec onderzoekt productietechniek voor kleinere transistors

Een onderzoekscentrum in het Belgische Leuven evalueert technieken om processors te produceren met een techniek die replacement metal gate genoemd wordt. Die techniek zou een grote rol spelen bij het kleiner maken van transistors.

Volgens het Leuvense onderzoeksbureau Imec zou de replacement metal gate- of rmg-techniek een belangrijk onderdeel zijn bij het ontwikkelen van transistors met afmetingen van minder dan twintig nanometer. De techniek zou Intels hkmg- of high-k metal gate-techniek op moeten volgen. Bij Intels hkmg-techniek wordt de metalen gate al als laatst gevormd, maar andere fabrikanten, zoals GlobalFoundries, passen een gate first-procedé toe. Het onderzoek wordt samen met onder meer Intel, GlobalFoundries en TSMC uitgevoerd.

De rmg-techniek die Imec onderzoekt, is eveneens een gate last-techniek, die over het algemeen complexer is dan gate first-technieken. Desalniettemin zou rmg-techniek voor toekomstige generaties processors nodig zijn en een brede keus aan diëlektrummateriaal mogelijk maken. De rmg-techniek dankt zijn naam aan de dummy-gate of tijdelijke gate die in de laatste productiestap van de transistors vervangen wordt door een metalen gate. Het materiaal van de gate zou onder lagere temperaturen aangebracht kunnen worden wat ook voor de gate tot meer materiaalopties leidt.